技術(shù)文章
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中華人民共和國國家計量檢定規(guī)程國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布微量氧分析儀檢定規(guī)程VerificationRegulationofMicroOxygenAnalyzers本規(guī)程經(jīng)國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局于2010年6月10日批準(zhǔn),并自2010年12月10日起施行。微量氧分析儀檢定規(guī)程1范圍本規(guī)程適用于測量范圍為0~1000vmol/mol微量氧分析儀的檢定、后續(xù)檢定和使用中的檢驗。2概述微量氧分析儀(以下簡稱儀器)主要用于化學(xué)、冶金、電子工業(yè)等領(lǐng)域中生產(chǎn)和應(yīng)用的氣體中微量氧含量的...
概覽SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障,其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應(yīng)用化學(xué)氣相沉積(CVD),SilcoNert®2000非常適用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量級測試精度(特色與優(yōu)勢?非視距工藝;所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層?消除吸附和再測試?獲得更快的校準(zhǔn)?對結(jié)果充滿信心SilcoNert®2000規(guī)格基板兼容性*:SS合金,陶瓷,玻璃,鈦及大多數(shù)特殊金屬,TIG/MIG焊接、真空鎳釬焊區(qū)域允許溫度范圍*:...
概述Dursan®是一種提供化學(xué)防護(hù)屏障的含硅、氧和碳的非晶涂層,并且作了進(jìn)一步功能化以減少對腐蝕性、反應(yīng)活性和其它不利分子的吸附。以化學(xué)氣相沉積(CVD)法制成的Dursan®涂層,是應(yīng)用中需要穩(wěn)定且化學(xué)惰性表面時的選擇。主要應(yīng)用和優(yōu)勢?以低成本達(dá)到類似稀有合金的抗腐蝕性能?提高系統(tǒng)耐用性?提高儀器精度和響應(yīng)時間?防粘易釋,易于清潔的表面Dursan®性能指標(biāo)沉積工藝:功能化硅膠樣涂層(a-SiOX:CHY)涂層結(jié)構(gòu):熱化學(xué)氣相沉積(非等離子體增強(qiáng))...
本資料全面介紹了SilcoTek®公司和其研發(fā)的涂層技術(shù)以及這些技術(shù)所能解決的關(guān)鍵問題。1985年,PaulSilvis在一家由小學(xué)改造成的企業(yè)孵化基地的一個房間里開設(shè)了一家色譜公司Restek®。1987年,Restek®發(fā)明了最初的SilcoSteel®涂層技術(shù),使分析儀器金屬表面具有玻璃一樣惰性。1993年,Restek®涂層研發(fā)團(tuán)隊開發(fā)了一種處理其它分析部件(如閥門、接頭等)的方法。1998年,Restek®榮獲多項表面...